![imagem-removebg-preview (1) (3) imagem-removebg-preview (1) (3)](http://www.sibratecnano.com/wp-content/uploads/elementor/thumbs/imagem-removebg-preview-1-3-pft4dq2kpd31ye9aozo5uhgiq35mmyq57tq4xt7ldg.png)
Centro de Componentes Semicondutores e Nanotecnologias
Rede de Nanodispositivos e Nanossensores
Rede de Nanomateriais e Nanocompósitos
Linhas de Pesquisa do Laboratório
- Desenvolvimento de novos métodos de micro e nanofabricação, incluindo:
– Litografia com resolução nanométrica por feixe de elétrons e por ponta de prova térmica,
– Deposição de filmes finos e ultrafinos de materiais condutores, semicondutores e isolantes utilizando métodos CVD (chemical vapor deposition), PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) e sputtering,
– Corrosão isotrópica e anisotrópica por plasmas reativos de baixa e alta densidade.
- Desenvolvimento e fabricação de novos dispositivos de nanoeletrônica (do tipo FinFET, ISFET), optoeletrônica e fotônica (guias ópticas, osciladores, antenas, acopladores, sensores).
- Desenvolvimento de dispositivos de microfluídica, para aplicações em separação de partículas e células, trocadores de calor, sensores bioquímicos.
- Desenvolvimento de novos materiais compósitos baseados em materiais grafíticos (nanotubos de carbono, grafeno, oxido de grafeno e nanografite) para aplicações em aquecedores flexíveis, interfaces térmicas, camadas protetoras de vários tipos, eletrodos, antenas RFID, sensores mecânicos e químicos.
- Desenvolvimento de novos materiais híbridos baseados em nanofolhas de grafeno/grafite e oxido de grafeno, nanopartículas e pontos quânticos para aplicações em sensores, supercapacitores, baterias de Li, proteção contra interferência eletromagnética, nanocatalise, ação antiviral, entre outras.
- Caracterização estrutural, química, térmica e elétrica dos dispositivos e de materiais nanoestruturados utilizando técnicas XPS (X Ray photoelectron spectroscopy) , FIB (focused ion beam), SEM (scanning electron microscopy), AFM (atomic force microscopy), Raman, elipsometria, métodos de quatro pontas, entre outros.
Galeria dos equipamentos
![Equipamento FIB](http://www.sibratecnano.com/wp-content/uploads/2020/07/image1.jpg)
![Sistema Raman/AFM;](http://www.sibratecnano.com/wp-content/uploads/2020/07/image2-1.jpg)
![Equipamento XPS](http://www.sibratecnano.com/wp-content/uploads/2020/07/image6-1.jpg)
![Sala de litografia óptica](http://www.sibratecnano.com/wp-content/uploads/2020/07/image7-e1595601191780.jpg)
![Fontes de plasmas de alta densidade para corrosão e deposição de filmes finos por PECVD](http://www.sibratecnano.com/wp-content/uploads/2020/07/image8-1.jpg)
![Sistema feixe de elétrons para litografia](http://www.sibratecnano.com/wp-content/uploads/2020/07/image9.jpg)
Anterior
Próximo
Equipe
![](http://www.sibratecnano.com/wp-content/uploads/2020/07/image3.jpg)